内容简介

《MOS集成电路工艺与制造技术》全面介绍了MOS集成电路工艺和制造技术。内容包括:硅晶圆衬底,氧化,扩散,离子注入,外延,化学汽相淀积,光刻,付蚀与刻蚀等,PNOS,NMOS,CMOS,LVHV兼容CMOS等制造工艺。

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